一·酷斯特科技自耗式真空電弧爐設(shè)備用途：

用于富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及材料的提純等  

二·酷斯特科技自耗式真空電弧爐設(shè)備特點(diǎn)：

1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì)，外形美觀大方，不生銹。

2·采用臥式圓筒形真空室，兩側(cè)開(kāi)門(mén)裝卸料方便

3 .配置大口徑觀察窗，可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況

3·冶煉溫度高，溫度可3500度以上，

4·采用電弧熔煉的熔煉電源。

5· 配有觸摸屏，可實(shí)現(xiàn)工藝存儲(chǔ)，溫度、真空、位移、等數(shù)據(jù)的保存記錄下載等。

6.高真空設(shè)計(jì)，真空度可達(dá)5×10E-3Pa及以上

7.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

8.水冷銅電極電動(dòng)升降，伺服控制，運(yùn)行穩(wěn)定無(wú)抖動(dòng)。

9.雙工位設(shè)計(jì)，一次料，連續(xù)生產(chǎn)

10·設(shè)備高效性：大部分金屬材料加熱重熔時(shí)間為一分鐘或更短

三·配置說(shuō)明：

1·真空配置： 機(jī)械泵系統(tǒng)5Pa 機(jī)械泵+擴(kuò)散泵系統(tǒng)5×10E-3Pa  機(jī)械泵加分子泵系統(tǒng)5.0*10-4pa

2·電源配置：30~180KW  根據(jù)熔煉容量

3·容量配置：3kg-50kg

4·溫度范圍：標(biāo)準(zhǔn)0-3000℃

5·坩堝工位：雙工位，可非標(biāo)定制

一·設(shè)備用途：

用于富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及材料的提純等  

二·設(shè)備特點(diǎn)：

1·爐體全不銹鋼設(shè)計(jì)，外形美觀大方，不生銹。

2·采用臥式圓筒形真空室，兩側(cè)開(kāi)門(mén)裝卸料方便

3 .配置大口徑觀察窗，可實(shí)時(shí)觀察爐內(nèi)的冶煉情況

3·冶煉溫度高，溫度可3500度以上，

4·采用電弧熔煉的熔煉電源。

5· 配有觸摸屏，可實(shí)現(xiàn)工藝存儲(chǔ)，溫度、真空、位移、等數(shù)據(jù)的保存記錄下載等。

6.高真空設(shè)計(jì)，真空度可達(dá)5×10E-3Pa及以上

7.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

8.水冷銅電極電動(dòng)升降，伺服控制，運(yùn)行穩(wěn)定無(wú)抖動(dòng)。

9.雙工位設(shè)計(jì)，一次料，連續(xù)生產(chǎn)

10·設(shè)備高效性：大部分金屬材料加熱重熔時(shí)間為一分鐘或更短

三·配置說(shuō)明：

1·真空配置： 機(jī)械泵系統(tǒng)5Pa 機(jī)械泵+擴(kuò)散泵系統(tǒng)5×10E-3Pa  機(jī)械泵加分子泵系統(tǒng)5.0*10-4pa

2·電源配置：30~180KW  根據(jù)熔煉容量

3·容量配置：3kg-50kg

4·溫度范圍：標(biāo)準(zhǔn)0-3000℃

5·坩堝工位：雙工位，可非標(biāo)定制